このモデルはトリフェニルメタン色素の励起状態の失活過程を説明するために作られました。

レーザーパルスにより励起状態に上げられた分子は励起状態の自由エネルギー曲面上で緩和していきますが、曲面の底に辿り着く前に無輻射失活過程により基底状態にもどってしまいます。

レーザーパルスにより基底状態の分布にホールが開きます。このホールが時間とともにうまっていきますが、励起状態からもどってきた分子がホットバンドを形成する様子もわかります。